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《科学》评论:美国排挤外国学者,会威胁科技繁荣

 

编译 | 何东明 责编 | 叶水送
美国在很多科技领域一直都处于全球领导地位,但很多美国科学家也一直有忧虑。5月17日,加州大学教授、Science 前主编 Albert Bruce 等人在 Science发文称,美国对华裔等外国学者的排挤以及不再支持年轻学者对新想法的探索,对美国科技继续繁荣发展会构成威胁。
 
他们指出,自20世纪中叶以来,美国能成功位于全球科技的领导地位,重要的是来自研究型大学的贡献。这些高校创造出新的基础科技知识,培养出许多优秀的年轻人才,吸引了世界各地的学者,很多人选择留下来做贡献(技术专家、学者与企业家等),这构成了美国保持科技繁荣发展的循环系统。 
 
如今,这个循环体系的两个关键要素正在受到威胁:
 
1. 年轻人才缺乏支持,也不再被鼓励他们探索新的想法,开展新的独立研究生涯越发的难。近30年来,美国NIH对36岁以下的科学家资助显著下降。
2. 在政治领导人的鼓吹下,不公正地贬低国外学者的成就与贡献。这并非是美国的精神,限制学术合作签证严重影响了外国优秀人才进入美国,他们原本可成为美国的科技繁荣贡献重要力量。
为此,他们提议领导者必须集中精力刺激创新,向那些有新研究想法的新研究者提供资助,并在其年轻时开始提供资金。同时重新考虑签证和移民政策,使留学生更易获得绿卡,让他们更容易留下来并为美国的科技发展做出贡献。近一半的科技领域(STEM)博士生来自国外,而文章作者之一Venkatesh Narayanamurti 就是印裔学者,他成为了哈佛大学工程与应用科学学院创始院长。
 
文章还指出,近来对华裔科学家采取的诸多排外行径,已引发国际上众多学者与公众的关注,美国政府需谨慎考虑,不要过度地破坏科研合作的环境。
 
参考资料
Two threats to U.S. science. Bruce Alberts, Venkatesh Narayanamurti,https://science.sciencemag.org/content/364/6441/613
 



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